项目示例

精密光学滤光片

用于干涉光学应用的精密溅射镀膜系统

应用

许多现代测量方法和大部分的通讯技术都基于光学过程。

光学滤光片必须从光束中移除个别波长（陷波滤光片），只允许定义的波长通过（带通滤光片），或者从某个波长切换从反射到透射（边缘滤光片）。

由高折射率和低折射率交替出现的薄介质层组成的干涉光学叠层可用作滤光片。

Eigenschaften	Daten
Abmessungen Maschine	5,0 m x 5,0 m x 3,2 m, Gewicht: 12 t
Anzahl Prozessstationen	4
Abmessungen Substrate	Durchmesser: 200 mm (EOSS 500), 300 mm (EOSS 600), Gewicht: bis 10 kg
Substrate pro Carrier	12 x 8" oder 12 x 6" oder 24 x 4", andere Größen auf Anfrage
Substratbeladestation	20 Carrierpositionen
Schichtdicken-Inhomogenität	+/- 0,25 %
Schichtdicken-Messung	In-situ broad-band monitoring (UV-VIS-IR)

对系统的要求

该系统将用于在直径达 200 毫米的平面基板上生产滤光片。作为精密滤光片，它们的透射光谱应具有特别高的再现性、特别陡的边缘和特别低的散射。这在技术上意味着必须沉积 50 层、100 层或更多层的叠层，每一层的厚度必须精确地粘附（并沉积在）整个基板上，偏差应小于 +/- 1%。应避免出现与光学相关的颗粒。另一项要求是：系统必须全自动处理配方，并实现高产能。