等离子蚀刻

等离子蚀刻（又称 "等离子辅助离子蚀刻"）是一种通过高能气体离子的冲击从表面去除材料的工艺。这种方法的另一个名称是 "溅射蚀刻"。FHR Anlagenbau GmbH 经常使用这种工艺。在开始进一步溅射之前，它还可以用于温和地清洁表面。这样可以确保后续涂层或表面处理的最佳附着力和质量。因此，该工艺不仅结合了蚀刻功能，还结合了各种应用的必要准备步骤。

在等离子蚀刻过程中，材料主要沿着离子撞击的方向被去除。这种工艺对不易与标准蚀刻气体发生反应的材料特别有用。但缺点是材料的去除速度较慢。除此以外，等离子蚀刻对大多数材料的去除率相同，对不同材料的区分不大，降低了选择性。

等离子蚀刻具有多项优势:

1. 干燥工艺: 等离子蚀刻是一种干式蚀刻工艺，无需使用湿化学品，从而降低了污染和化学残留物的风险。
2. 高精度和可重复性: 离子刻蚀可以精确地构建和定义最精细的图案，因此特别适用于半导体工业和纳米技术的应用。
3. 基底的预清洁: 在实际材料加工开始之前，等离子蚀刻可用于去除基材表面的杂质和氧化物，从而提高后续涂层的质量和附着力。
4. 多功能性: 通过使用不同的工艺气体，等离子蚀刻可用于蚀刻各种材料，因此应用范围非常广泛。

这些特性使等离子刻蚀成为现代制造和材料加工的重要工具。