物理气相沉积（PVD）

物理气相沉积（简称PVD），是一种用于在基底上应用涂覆薄涂层的技术。所有这些过程都在真空中进行。

从经济角度来看，最常用也是最重要的 PVD 工艺是溅射。由于其高度灵活性，它被广泛应用于各行各业。溅射可将多种不同的材料应用于各种表面。例如，它可用于半导体工业、材料精加工、光学工业，甚至用于建筑物上大型玻璃表面的涂层。FHR Anlagenbau GmbH 是这一领域的全球技术领导者。FHR 生产一流的镀膜系统和最高质量的溅射靶材。我们在这一领域的专业技术是多年经验和创新激情的结晶。

在 PVD 工艺中，材料（称为靶材）在系统中保持固态，以便随后进行薄膜涂层。然后，这种材料被气化，在基底表面形成薄膜。气化材料的方法有很多种，例如使用激光、电弧或粒子轰击。

还有一种 PVD 技术是通过加热将材料转移到气态（热气相沉积）。分子束外延和离子束引导沉积也属于 PVD 工艺。所形成的涂层特别纯净、均匀，与基底的附着力极高。因此，在众多应用领域中，PVD 涂层是传统电化学工艺的环保型替代工艺。 
 

与其他薄膜沉积技术相比，物理气相沉积具有多项优势:

1. 高纯度涂层: 由于PVD在真空环境中进行，沉积物通常不受大气杂质的影响，因此涂层的纯度特别高。
2. 薄而均匀的涂层: PVD能够生产极其薄、均匀且附着性好的涂层，即使涉及复杂的表面结构也不例外。
3. 多功能性: 各种材料-从金属到陶瓷都可以使用 PVD 沉积为薄膜，从而实现广泛的应用。
4. 环保: 与某些湿化学过程相比，PVD通常不使用危险化学品，从而最小化对环境的影响和废物浪费。
5. 涂层的使用寿命长: PVD涂层通常坚硬且耐腐蚀，这可以延长工具和其他涂层物体的使用寿命。
6. 经济效益: 尽管PVD系统的初始成本较高，但从材料产出、维护和延长产品寿命改善方面的长期效益看可带来经济优势。

这些优势使得物理气相沉积成为许多工业和科学应用首选的方法。