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用于干涉光学应用的精密溅射镀膜系统

FHR.STAR-EOSS®-产品系列

用于开发和生产精密光学仪器的薄膜镀膜系统

采用 PVD 和等离子 CVD 技术的在线式真空镀膜系统

FHR.LINE-产品系列

用于平板、晶圆和磁盘的薄膜镀膜系统,适用于研发,中试或大批量系列生产。

自由配置的团簇式系统

FHR.STAR-产品系列

用于处理各种基底的薄膜镀膜系统——如板、盘、晶片或高度精细的应用,如针头或针脚。

用于柔性基材的溅射、气相沉积和 PECVD 系统

FHR.ROLL-产品系列

用于为研发、中试或大批量生产的平板、晶片、硅片进行喷涂的薄膜镀膜系统。

采用特殊滚筒概念的磁控溅射系统,适用于小型基材

FHR.BOXX-产品系列

用于为研发和生产所需的板材、磁盘、晶片、针脚和针头进行喷涂的薄膜镀膜系统。